區(qū)熔硅片

什么是區(qū)熔硅片?
區(qū)熔硅片就是通過區(qū)熔法(Float Zone)長晶得到區(qū)熔單晶硅棒,然后把單晶硅棒加工成硅片,叫做區(qū)熔硅片。區(qū)熔硅片由于在長晶的過程中沒有跟石英坩堝接觸,硅材料處于懸浮狀態(tài),因此長晶過程中受污染少。碳含量和氧含量更低,雜質(zhì)更少,電阻率更高,適用于功率器件和某些耐高壓電子器件的制造。
區(qū)熔硅片在長晶過程中,通常不會像直拉法那樣摻入雜質(zhì)元素硼(Boron)或者磷(Phos),因此區(qū)熔硅片大多是本征型,不摻雜的高阻片,電阻率大于>1000歐姆-厘米。但是某些情況下,也可以通過NTD中照和GD氣摻來實現(xiàn)對區(qū)熔硅棒的摻雜,以達到均勻性更好和更低的電阻率。


Diameter2" 3" 4" 5" 6" 8"
Growth MethodFZ
Orientation < 1-0-0 > , < 1-1-1 >
Type/DopantIntrinsic, N Type/Phos, P Type/Boron
Thickness (um)279380525625675725
Thickness ToleranceStandard ± 25um±50um
Resistivity(Ohm-cm)1000-20000, Maximum Capabilities>20000, and 1-5
Surface FinishedP/E , P/P, E/E, G/G
TTV (um)Standard < 10 um
Bow/Warp   (um)Standard <40 um<50um
Particle<10@0.3um


區(qū)熔硅片就是通過區(qū)熔法(Float Zone)長晶得到區(qū)熔單晶硅棒,然后把單晶硅棒加工成硅片,叫做區(qū)熔硅片。區(qū)熔硅片由于在長晶的過程中沒有跟石英坩堝接觸,硅材料處于懸浮狀態(tài),因此長晶過程中受污染少。碳含量和氧含量更低,雜質(zhì)更少,電阻率更高,適用于功率器件和某些耐高壓電子器件的制造。
區(qū)熔硅片在長晶過程中,通常不會像直拉法那樣摻入雜質(zhì)元素硼(Boron)或者磷(Phos),因此區(qū)熔硅片大多是本征型,不摻雜的高阻片,電阻率大于>1000歐姆-厘米。但是某些情況下,也可以通過NTD中照和GD氣摻來實現(xiàn)對區(qū)熔硅棒的摻雜,以達到均勻性更好和更低的電阻率。



供應(yīng)產(chǎn)品
區(qū)熔硅片
化合物半導(dǎo)體
外延片
氧化片
單晶硅棒
直拉硅片
聯(lián) 系 我 們
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